设备采用真空镀膜技术，针对重稀土晶界扩散工艺中重稀土成膜工序进行专门设计，该设备具有常规真空镀膜技术的沉积膜层均匀、致密、附着力强等特点，还具有高稼动率、大产能等优点。

设备特点

采用卧式设计，整个操作过程自动运行

采用托盘支撑的工件摆放方式，可以节省装夹时间和节约人工，降低劳动强度和运行成本

选用新型专业定制的高利用率旋转阴极，靶材溅出率可达到85%~90%

旋转靶材拥有更长的使用时间，大大延长了设备的换靶周期/减少破空周期

良好的靶筒冷却系统使旋转阴极可以承受更高的功率密度

技术指标

镀层厚度均匀性：≤±5%

设备压升率（镀膜区）：≤0.6Pa/h（空载、室温）

冷却效率：20min内出料，工件表面温度≤80℃

靶材溅出率：靶材为10mm厚时，靶材溅出率≥82%

阴极数量：4套高利用率旋转阴极