CWP系列产品阴极均水平安装，产品装夹在载板上从阴极处连续通过。设备由多组模块化真空腔室组成，腔室内可配置平面阴极或移动平面阴极、旋转阴极、线性离子源等功能部件，可对工件表面进行离子清洗和刻蚀，实现金属、金属化合物等各类材料的真空沉积。

设备特点

腔室设计模块化，便于产能拓展

设备内多重洁净防护，维护更换便捷

设备性能可靠稳定，已在客户处实现多年稳定运行

可实现气氛隔离，兼容金属溅射和化合物反应溅射

可选自动化翻面配套，实现工件双面镀膜

技术指标

基材尺寸：有效宽度1100/1500/1950/ 2200mm

膜厚均匀性：±5%

靶材利用率：平面阴极:≥30%，动平面阴极:≥60%，旋转阴极:≥80%；

走速范围：30-1000mm/min