设备采用真空镀膜技术，针对重稀土晶界扩散工艺中重稀土成膜工序进行专门设计，该设备具有常规真空镀膜技术的沉积膜层均匀、致密、附着力强等特点，还具有高稼动率、大产能等优点。设备特点采用卧式设计，整个操作过程自动运行采用托盘支撑的工件摆放方式，可以节省装夹时间和节约人工，降低劳动强度和运行成本选用新型专业定制的高利用率旋转阴极，靶材溅出率可达到85%~90%旋转靶材拥有更长的使用时间，大大延长了设备的换靶周期/减少破空周期良好的靶筒冷却系统使旋转阴极可以承受更高的功率密度技术指标镀层厚度均匀性：≤±5%设备压升率（镀膜区）：≤0.6Pa/h（空载、室温）冷却效率：20min内出料，工件表面温度≤80

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本设备广泛适用于烧结钕铁硼磁性材料的扩散回火工艺热处理以及其他热处理工艺。设备特点设备所有电机使用国家二级节能电机风机电机动密封形式采用磁流体结构密封技术指标炉内有效工作区：600（高）×600（宽）×1800（深）mm温度：1100℃温度均匀性：≤±3℃压升率（空炉）：≤0.3Pa/h装料量：≥1000kg

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CWP系列产品阴极均水平安装，产品装夹在载板上从阴极处连续通过。设备由多组模块化真空腔室组成，腔室内可配置平面阴极或移动平面阴极、旋转阴极、线性离子源等功能部件，可对工件表面进行离子清洗和刻蚀，实现金属、金属化合物等各类材料的真空沉积。设备特点腔室设计模块化，便于产能拓展设备内多重洁净防护，维护更换便捷设备性能可靠稳定，已在客户处实现多年稳定运行可实现气氛隔离，兼容金属溅射和化合物反应溅射可选自动化翻面配套，实现工件双面镀膜技术指标基材尺寸：有效宽度1100/1500/1950/2200mm膜厚均匀性：±5%靶材利用率：平面阴极:≥30%，动平面阴极:≥60%，旋转阴极:≥80%；走速范围：3

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